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PL-DW20 立式多層電極板20L真空草莓视频色色版清洗器

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電源係統

射頻電源

功率

0~600W

頻率

13.56MHz

真空係統

雙級旋片泵(油泵)

16m3/h

真空管路

全不鏽鋼管路,以及高強度真空波紋管

材質

鋁合金(可定製不鏽鋼腔體)

厚度

25mm

密封性

軍工級焊接密封

腔體內部尺寸

20

可用空間間距

22.5mm

電極板布置方式

水平布置,可活動抽取

工作托盤

鋼絲網

氣體係統

流量範圍

0~300SCCM

工藝氣體氣路

標配兩路,可定製

控製係統

係統控製

PLC

交付方式

7寸觸控屏幕

其它參數

外形尺寸

900×1600×900mm(寬×高×深)

重量

150KG

1  設備構成及特點

本草莓视频色色版體表麵處理係統主要包括三個部分: 真空腔及真空係統、 草莓视频色色版體發生器、 控製係統。

2  真空腔及真空發生係統

真空腔固定於機櫃框架內,左右兩側為可拆門,因此內部的真空腔及真空係統的維修是極方便的。真空發生係統由波紋管、KF 接頭、真空泵以及油霧過濾器組成,此泵維護簡單方便,抽速穩定,

質量耐用,保養時,每次按照用量來更換真空泵油,並妥善處理廢棄油品;保養和維護請按照泵的使用說明書進行。

3  草莓视频色色版體發生器

草莓视频色色版體發生器在 20Pa-100Pa 間給電極板施加電壓,產生低溫草莓视频色色版體。利用高頻轉換技術形成高頻電壓加到電極板上,當真空腔內達到一定真空度時,產生草莓视频色色版體放電現象,放電後電路會自

動調節電壓到適當值,保證電路正常穩定放電。


行業應用

手機行業:TP、中框、後蓋表麵清洗活化

PCB/FPC行業:孔內鑽汙及表麵清潔、Coverlay表麵粗化及清潔

半導體行業:半導體封裝、攝像頭模組、LED封裝、BGA封裝、Wire Bond前處理

 陶瓷:封裝、點膠前處理

表麵粗化蝕刻:PI表麵粗化、PPS蝕刻、半導體矽片PN結去除、ITO膜蝕刻

塑膠材料:Teflon特氟龍表麵活化、ABS表麵活化、以及其他塑料材質清洗活化

ITO塗覆前表麵清洗

概述:是正離子和電子密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進分子、光子以及中性粒子組成,是物質的第四態。人們普遍認為的物質有三態:固態、液態、氣態。區分這三種狀態是靠物質中所含能量的多少。給氣態物質更多的能量,比如加熱,將會形成草莓视频色色版體,在宇宙中99.99%的物質處於草莓视频色色版狀態。
清洗原理:通過化學或物理作用對工件表麵進行處理,實現分子水平的汙染物去除(一般厚度為3~30nm),從而提高工件表麵活性。被清除的汙染物可能為有機物、環氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒汙染物等。對應不同的汙染物,應采用不同的清洗工藝,根據選擇的工藝氣體不同,草莓视频色色版清洗分為化學清洗、物理清洗及物理化學清洗。
化學清洗:表麵反應以化學反應為主的草莓视频色色版體清洗,又稱PE。
例1:O2+e-→ 2O※ +e-     O※+有機物→CO2+H2O
從反應式可見,氧草莓视频色色版體通過化學反應可使非揮發性有機物變成易揮發的H2O和CO2。
例2:H2+e-→2H※+e-      H※+非揮發性金屬氧化物→金屬+H2O
從反應式可見,氫草莓视频色色版體通過化學反應可以去除金屬表麵氧化層,清潔金屬表麵。
物理清洗:表麵反應以物理反應為主的草莓视频色色版體清洗,也叫濺射腐蝕(SPE)。
例:Ar+e-→Ar++2e-       Ar++沾汙→揮發性沾汙
Ar+在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產生動能,然後轟擊在放在負電極上的被清洗工件表麵,一般用於去除氧化物、環氧樹脂溢出或是微顆粒汙染物,同時進行表麵能活化。
物理化學清洗:表麵反應中物理反應與化學反應均起重要作用。
草莓视频色色版清洗設備
草莓视频色色版清洗設備的原理是在真空狀態下,壓力越來越小,分子間間距越來越大,分子間力越來越小,利用射頻源產生的高壓交變電場將氧、氬、氫等工藝氣體震蕩成具有高反應活性或高能量的離子,然後與有機汙染物及微顆粒汙染物反應或碰撞形成揮發性物質,然後由工作氣體流及真空泵將這些揮發性物質清除出去,從而達到表麵清潔活化的目的。是清洗方法中最為徹底的剝離式清洗,其最大優勢在於清洗後無廢液,最大特點是對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料等都能很好地處理,可實現整體和局部以及複雜結構的清洗。


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